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euv光刻机原理
  • euv光刻机原理

  • euv光刻机原理是接近或接触式光刻通过无限靠近,复制掩模板上的图案;直写式光刻是将光束聚焦为一点,通过运动工件台或镜头扫描实现任意图形加工。投影式光刻因其高效率、无损伤的优点,是集成电路主流光刻技术。光刻机(MaskAligner)是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关...
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Euv光刻机是干什么用的
  • Euv光刻机是干什么用的

  • 光刻机是芯片制造的核心设备之一。在加工芯片的过程中,光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上,然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图。光刻机的结构组成:1、测量台、曝光台:...
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